Chemisch-mechanische Poliermaschine
Friedrich-Schiller-Universität Jena
- Auftraggeber
- Friedrich-Schiller-Universität Jena
- Veröffentlicht
- 08.09.2026
- Angebotsfrist
- 13.10.2026
- Hauptgegenstand
- 38000000 — Mess- & Prüftechnik
- Weiterer CPV
- 38000000 — Mess- & Prüftechnik
Aus der Bekanntmachung
Die Friedrich-Schiller-Universität Jena beabsichtigt für Ihre wissenschaftliche Tätigkeit die Anschaffung einer chemisch-mechanischen Poliermaschine (CMP) für das Polieren von Halbleiter- und Dielektrikaoberflächen für optische Anwendungen. Sie muss für Probengrößen bis hin zu Wafern (Halbleiterscheiben) mit Durchmessern von bis zu 100 Millimeter geeignet sein, Rauigkeiten kleiner als 1 Nanometer (RMS-Rauigkeit) erreichen können. Daraus ergeben sich folgende Mindestanforderungen: siehe Anlage 2 Die Vergabestelle behält sich vor Angebote über einem Gesamtauftragswert von 225.000,00 Euro netto von der Wertung auszuschließen. Liegen alle Angebote über dieser Grenze, ist die Vergabestel-le berechtig die Ausschreibung aufzuheben.